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賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀

賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀

賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀可進行全自動、高通量的表面分析,提供用于推進研發(fā)或解決生產(chǎn)問題的數(shù)據(jù)。 集成 XPS 與離子散射譜(ISS)、紫外光電子能譜 (UPS)、反射電子能量損失譜(REELS)和拉曼光譜,讓您進行真正的聯(lián)用分析。

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商品描述

賽默飛Nexsa G2 X 射線光電子能譜儀可進行全自動、高通量的表面分析,提供用于推進研發(fā)或解決生產(chǎn)問題的數(shù)據(jù)。 集成 XPS 與離子散射譜(ISS)、紫外光電子能譜 (UPS)、反射電子能量損失譜(REELS)和拉曼光譜,讓您進行真正的聯(lián)用分析。


標準化性能:

·絕緣體分析

·高性能XPS性能

·深度剖析

·多技術(shù)聯(lián)合

·雙模式離子源,使深度剖析功能得到擴展

·用于 ARXPS 測量的傾斜模塊

·用于儀器控制、數(shù)據(jù)處理和報告生產(chǎn)的 Avantage 軟件

·小束斑分析

可選的升級:可將多種分析技術(shù)集成到您的檢測分析中。式自動運行

·ISS:離子散射譜,分析材料表面1-2原子層元素信息,通過質(zhì)量分辨可分析一些同位素豐度信息。

·UPS:紫外光電子能譜用于分析金屬/半導體材料的價帶能級結(jié)構(gòu)信息以及材料表面功函數(shù)信息

·拉曼:拉曼光譜技術(shù)用于提供分子結(jié)構(gòu)層面的指紋信息

·REELS:反射電子能量損失譜可用于H元素含量的檢測以及材料能級結(jié)構(gòu)和帶隙信息


留 言